Canon ha lanzado el FPA-3030i6, un innovador sistema de litografía diseñado para procesar obleas de hasta 200 mm de diámetro. Este equipo incorpora una nueva lente de proyección de alta transmitancia y durabilidad, reduciendo la aberración óptica y mejorando significativamente la productividad.
Innovaciones destacadas:
- Lente avanzada: Fabricada con vidrio de alta transmitancia, minimiza defectos ópticos en más de un 50 % frente a modelos anteriores, manteniendo la precisión del patrón incluso en exposiciones de alta dosis.
- Mayor productividad: Procesa hasta 130 obleas por hora, superando las 123 de modelos previos, gracias a tiempos de exposición más cortos.
- Flexibilidad de apertura numérica (AN): Un rango ampliado (0,45~0,63) permite ajustar la AN según las necesidades de cada dispositivo.
- Versatilidad de sustratos: Compatible con silicio, zafiro y semiconductores compuestos como SiC, GaN y GaAs, cubriendo aplicaciones en dispositivos de alta potencia y eficiencia.
Canon también ofrece opciones para manejar obleas de 50 mm a 200 mm, incluyendo sustratos finos, gruesos o alabeados, lo que hace del FPA-3030i6 una herramienta versátil para la fabricación de semiconductores emergentes.
Fuente: https://www.muypymes.com/2024/12/05/canon-litografia-semiconductores-fpa-3030i6
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